芯片厂反渗透阻垢分散剂是一种高纯水制备设备的反渗透阻垢剂,用于膜的阻垢分散。SSL/森盛隆芯片厂反渗透阻垢分散剂产品采用专利技术配方,符合国际行业标准,产水质量好,芯片厂反渗透阻垢分散剂销售走势看涨。
随着各地芯片厂产能的提升,芯片厂反渗透阻垢分散剂销售走势直线上涨。芯片厂反渗透阻垢剂分散用于反渗透水处理设备的膜阻垢分散应用。反渗透技术是当今最先进、最节能、效率最高的分离技术。其原理是在高于溶液渗透压的压力下,借助于只允许水分子透过的反渗透膜的选择截留作用,将溶液中的溶质与溶剂分离,从而达到纯净水的目的。芯片厂反渗透阻垢分散剂是纯净水制备的必需药剂。芯片 (半导体元件产品的统称)集成电路英语:integrated circuit,缩写作 IC;或称微电路(microcircuit)、微芯片(microchip)、晶片/芯片(chip)在电子学中是一种把电路(主要包括半导体设备,也包括被动组件等)小型化的方式,并时常制造在半导体晶圆表面上。
芯片厂反渗透阻垢分散剂,SSL/森盛隆无磷反渗透阻垢分散剂SY705产品推荐。
无磷反渗透阻垢分散剂SY705产品是一种【无磷】环保型反渗透膜阻垢剂产品是专为反渗透(RO)系统开发的一种广谱高效无磷环保型RO膜阻垢剂。无磷反渗透阻垢分散剂SY705产品适用芯片厂的纯净水制备应用,解决微电子集成电路行业的用水需要。
无磷反渗透阻垢剂SY705产品适用于美国陶氏膜(Dow.Filmtec)、海德能(Hydranautics)、流体膜(Fluid Systems)、日本东丽膜(TORAY)\GE膜、世韩膜(CSM)等各类进口、国产反渗透膜元件。
无磷反渗透阻垢剂SY705产品经实际使用证实对控制以下污垢卓有成效:碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶、氟化钙、二氧化硅和铁。可以控制在浓水中侧LSI达3.0,Fe3+含量1.5 mg/l,二氧化硅含量185mg/l。
产品特点:
1、无磷环保型膜阻垢剂的研制成功,彻底解决了排放含磷造成水质富养难题,有效改善江河水质日益恶化。
2、使用剂量减少,是控制结垢的高性价比方案
3、适用于各种类型的膜材料
4、是铁和锰的有效螯合剂
5、可使系统运转的回利用率更高
物理特性:
外观:琥珀色透明液体
气味:轻微
比重(25℃):1.05±0.2
PH值(纯态):3±1
粘性(25℃):23cps
产品应用:
连续投加至膜系统前的进水中。典型投加剂量为2-6mg/l,视水的化学性质、膜类型及系统运行参数(如回利用率、温度与压力等)有所变化。
应连续投加,建议在计量泵的高频率下进行原液直接投加,也可以用RO产水或脱盐水稀释,稀释倍数不超过10。
操作注意事项:
佩戴乳胶手套、防护眼镜、防护服,若溅到眼睛时,请立即用大量清水冲洗眼睛,并迅速就诊。防止外溢在水泥地面以免引起腐蚀,如侵蚀地面请立刻用清水冲洗。
包装:25kg/桶(蓝色方胖桶)
保质期:二年,避光阴凉处保存。
森盛隆芯片厂反渗透阻垢分散剂销售批发的知名厂家,我们加强双方的交流与沟通,不仅仅是希望了解客户对产品的评价,更重要的是进入一种"引导用户消费,让用户放心"的服务新时代!实现企业更加高效,低成本的需求,提高市场反应速度、加快技术创新力度、严把质量关、降低生产成本、让消费者得到实惠,在瞬息万变的竞争中把握更多商机。
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